Olympus MPLN-BD, MPLFLN-BD и LMPLFLN-BD – темнопольные объективы для материаловедения
В зависимости от того, какие задачи планируется решать на микроскопе, стоит сконфигурировать набор объективов определенным образом. К примеру, для базовой оценки балла зерна сталей, контроля толщины упроченного слоя или покрытий подойдут план-ахроматические объективы. В случае, если вы планируете работать с поляризацией и ДИК контрастом – необходимо устанавливать план-флуориты. В линейке MPLFLN есть объектив 150х, позволяющий получить максимальное разрешение микроструктуры шлифов и микроэлектронных компонентов.
MPLN-BD – План ахроматические объективы для материаловедения
План-ахроматическая серия для установки в металлографические и материаловедческие микроскопы. Поддерживает поле зрения FN22, работу в светлом поле, темном поле, простой поляризации и ДИК. Решение для рутинных металлографических исследований, изучения балла зерна, оценки неметаллических включений и пр.
| Увеличение | Числовая апертура NA | Рабочее расстояние, мм | Дополнительная информация | |
| MPLN5XBD | 5x | 0,1 | 12 | – |
| MPLN10XBD | 10x | 0,25 | 6,5 | – |
| MPLN20XBD | 20x | 0,4 | 1,3 | Подпружиненный |
| MPLN50XBD | 50x | 0,75 | 0,38 | Подпружиненный |
| MPLN100XBD | 100x | 0,9 | 0.21 | Подпружиненный |
MPLFLN-BD – План флуориты для светлого поля, темного поля и ДИК
Высококачественные объективы, сконструированные для получения максимального разрешения в светлом поле, темном поле и дифференциально интерференционном контрасте. С коррекцией хроматических аберраций для получения детального изображения даже на периферии объектов. Позволяют использовать одну ДИК призму на всю линейку объективов. Поле зрения до FN 26,5.
| Увеличение | Числовая апертура NA | Рабочее расстояние, мм | Дополнительная информация | |
| MPLFLN5XBD | 5x | 0,15 | 12 | – |
| MPLFLN10XBD | 10x | 0,3 | 6,5 | – |
| MPLFLN20XBD | 20x | 0,45 | 3 | – |
| MPLFLN50XBD | 50x | 0,8 | 1 | – |
| MPLFLN100XBD | 100x | 0,9 | 1 | – |
| MPLFLN150XBD | 150x | 0,9 | 1 | – |
LMPLFLN-BD – План флуориты для светлого поля, темного поля и ДИК с увеличенным рабочим отрезком
Объективы для изучения декорпусированных микросхем, металлов с возможной измененией топографии. Увеличенное рабочее расстояние позволяет отдалить поверхность исследуемого объекта от входного зрачка объектива. Это удобно для изучения микроэлектронных компонентов в корпусах, изучения проточек, пазов и канавок трения.
Поддерживают поле зрения до FN 26.5.
| Увеличение | Числовая апертура NA | Рабочее расстояние, мм | Дополнительная информация | |
| LMPLFLN5XBD | 5x | 0,13 | 15 | – |
| LMPLFLN10XBD | 10x | 0,25 | 10 | – |
| LMPLFLN20XBD | 20x | 0,4 | 12 | – |
| LMPLFLN50XBD | 50x | 0,5 | 10,6 | – |
| LMPLFLN100XBD | 100x | 0,8 | 3,3 | – |
MPLFLN-BDP – План флуориты для светлого поля, темного поля и ДИК с увеличенным рабочим отрезком
Объективы для поляризационного и ДИК наблюдения. Отлично справляются с флуоресцентными изображениями, созданы для исследовательских поляризационных микроскопов на базе Olympus BX53P и BX53M.
| Увеличение | Числовая апертура NA | Рабочее расстояние, мм | Дополнительная информация | |
| MPLFLN5XBDP | 5x | 0,15 | 12 | – |
| MPLFLN10XBDP | 10x | 0,25 | 6,5 | – |
| MPLFLN20XBDP | 20x | 0,4 | 3 | – |
| MPLFLN50XBDP | 50x | 0,75 | 1,0 | – |
| MPLFLN100XBDP | 100x | 0,9 | 1,0 | – |
